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真空镀膜电浆技术在表面技术上的应用有哪些?

编辑:木龙科技 发布时间:2021-02-24 17:16:10 点击:

     真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。真空镀膜电浆技术在表面技术上的应用有哪些?

真空镀膜
    (1)溅浆沉积:溅镀是利用高速的离子撞击固体靶材,使表面分子溅离并射到基材镀成一层薄膜,溅射离子的起始动能约在100eV。常用的电浆气体为氩气,质量适当而且没有化学反应。
 
    (2)电浆辅助化沉积:气相化学沉积的化学反应是在高温基材上进行,如此才能使气体前置物获得足够的能量反应。
 
    (3)电浆聚合:聚合物或塑料薄膜最简单的披覆技术就是将其溶剂中,然后涂布于基板上。电浆聚合涂布法系将分子单体激发成电浆,经化学反应后形成致密的聚合体并披覆在基板上,由于基材受到电浆的撞击,其附着性也很强。
 
    (4)电浆蚀刻:湿式碱性蚀刻,这是最简单而且便宜的方法,它的缺点是碱性蚀刻具晶面方向性,而且会产生下蚀的问题。
 
    (5)电浆喷覆:在高温下运转的金属组件须要有陶瓷物披覆,以防止高温腐蚀的发生。
真空镀膜
    在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法,称为真空镀膜。 东莞木龙科技有限公司创立于2019年10月,是一家专业从事真空镀膜设备及工艺的研发、设计、生产、销售于一体的企业。主营产品:真空镀膜生产设备和真空镀膜配件、自动化设备、镀膜材料和镀膜加工。
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