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真空镀膜机薄膜均匀性概念

编辑:木龙科技 发布时间:2021-01-05 17:34:18 点击:

     真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空电阻加热蒸发,电子枪加热蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积,离子束溅射等很多种,真空镀膜机薄膜均匀性概念。

真空镀膜机
    1.厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
 
    2.化学组分上的均匀性:就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。具体因素也在下面给出。
 
    3.晶格有序度的均匀性:这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题,具体见下。
真空镀膜机
    真空镀膜需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。东莞木龙科技有限公司创立于2019年10月,是一家专业从事真空镀膜设备及工艺的研发、设计、生产、销售于一体的企业。主营产品:真空镀膜生产设备和真空镀膜配件、自动化设备、镀膜材料和镀膜加工。
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