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真空镀膜过程中的均匀性到底是重要还是不重要?

编辑:木龙科技 发布时间:2020-08-21 14:49:10 点击:

     真空镀膜的过程非常复杂,由于镀膜原理的不同而分为多种类型,由于所要求的真空度较高而有一个通用的名称。因此,影响不同原理真空镀膜均匀性的因素是不一样的。而均匀性的概念本身也会随着涂层的规模和膜的组成而有不同的意义。真空镀膜过程中的均匀性到底是重要还是不重要?

真空镀膜
    主要分类有两个大种类:
 
    一、对于蒸发镀膜:
 
    一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。
 
    厚度均匀性主要取决于:
 
    1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
 
    2、基片表面温度
 
    3、蒸发功率,速率
 
    4、真空度
 
    5、镀膜时间,厚度大小。
 
    组分均匀性:
 
    蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。晶向均匀性:
 
    1、晶格匹配度
 
    2、基片温度
 
    3、蒸发速率
 
    二、对于溅射类镀膜:
 
    可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过程,终形成薄膜。
 
    溅射镀膜又分为很多种,总体看,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之。
 
    溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较般。以pld为例,因素主要有:靶材与基片的晶格匹配程度、镀膜氛围(低压气体氛围)、基片温度、激光器功率、脉冲频率、溅射时间。
 
    对于不同的溅射材料和基片,最佳参数需要实验确定,是各不相同的,镀膜设备的好坏主要在于能否精确控温,能否保证好的真空度,能否保证好的真空腔清洁度。MBE分子束外沿镀膜技术,已经比较好的解决了如上所属的问题,但是基本用于实验研究,工业生产上比较常用的体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。
真空镀膜
 
    真空镀膜在真空条件下制备薄膜,环境清洁,薄膜不易受到污染,因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。东莞木龙科技有限公司创立于2019年10月,是一家专业从事真空镀膜设备及工艺的研发、设计、生产、销售于一体的企业。主营产品:真空镀膜生产设备和真空镀膜配件、自动化设备、镀膜材料和镀膜加工。
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