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废话不多说,今天的主题“真空镀膜之溅射镀膜工艺”

编辑:木龙科技 发布时间:2020-11-16 17:33:15 点击:

     真空镀膜技术通常分为两大类,即物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它利用真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束,分子束,离子束,等离子束,射频和磁控等一系列新技术,废话不多说,今天的主题“真空镀膜之溅射镀膜工艺”。

真空镀膜
    所谓溅射镀膜是指在真空室中,利用荷能粒子(如正离子)轰击靶材,使靶材表面原子或原子团逸出,逸出的原子在工件的表面形成与靶材成分相同的薄膜,这种制备薄膜的方法称为溅射镀膜。
 
    目前,溅射法主要用于形成金属或合金薄膜,特别是用于制造电子元件的电极和玻璃表面红外反射薄膜。另外,溅射还可以制备制备功能薄膜,如液晶显示装置的In2O3–SnO2透明导电陶瓷薄膜。
 
    溅射镀膜有两种方式:一种称为离子束溅射,指真空状态下用离子束轰击靶表面,使溅射出的粒子在基体表面成膜,该工艺大量昂贵,主要用于制取特殊的薄膜;另一种被称为溅射溅射,主要利用低压气体放电现象,使位于等离子状态下的离子轰击靶面,溅射出的粒子沉积在基体上。
 
    它采用平行板电极结构,膜料物质注入的大面积靶为负极,支持基体的基板为阳极,安装于钟罩式真空容器内。为减少污染,先将钟罩内的压强抽到小于l0 -3〜10-4Pa,然后充入Ar,使压强维持在l〜10Pa。在两极之间加千伏的电压进行溅射镀膜。
 
    与蒸发镀膜比,溅射镀膜时靶材(膜料)无相变,化合物成分稳定,合金不易分馏,因此适合制备的膜材非常广泛。通过溅射沉积到基体上的粒子能量比蒸发时酌量能量高50倍,它们对基体有清洗和加热作用,所以形成的薄膜附着力大。特别是溅射镀膜容易控制膜的成分,通过直接溅射或反应溅射,可以制备大面积均匀的各部分种合金膜,化合物膜,多层膜和复合膜。
 
    但是,由于溅射时要使用高电压和气体,所以装置比较复杂,薄膜易受溅射气氛的影响,薄膜沉积速率也只有最小。 ,溅射镀膜需要预先制备各种成分的靶材,装卸靶材不太方便,靶材的利用不太高等。
真空镀膜
 
    简单地说,在真空中把金属,合金或化合物进行蒸发或溅射,转换在被替换的物体(称基板,基片或基体)上凝固并沉积的方法,称为真空镀膜。龙科技有限公司创立于2019年10月,是一家专业从事真空镀膜设备及工艺的研发,设计,生产,销售于一体的企业。主营产品:真空镀膜生产设备和真空镀膜配件,自动化设备,镀膜材料和镀膜加工。
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