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别傻了,真空镀膜对蒸发源材料有这些要求

编辑:木龙科技 发布时间:2020-10-10 15:33:13 点击:

     真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。别傻了,真空镀膜对蒸发源材料有这些要求。

真空镀膜
    (1)熔点高。因为蒸发材料的蒸发温度(平衡蒸汽压为1.3Pa的温度)多数在1000~2000℃之间,因此,蒸发源材料的熔点应高于此温度。
 
    (2)平衡蒸汽压低。这主要是防止或减少高温下蒸发源材料随蒸发材料蒸发而成为杂质,进入蒸镀膜层中。只有在蒸发源材料的平衡气压足够低时,才能保证在蒸发时具有*小的自蒸发量,才不致影响系统真空度和污染膜层,为了使蒸发源材料所蒸发的数量非常少,在选择蒸发温度、蒸发源材料时,应使材料的蒸发温度低于蒸发源材料在平衡气压为1.3×10-6Pa时的制备高质量的薄膜可采用与1.3×10-3Pa所对应的温度。
 
    (3)化学性能稳定,在高温下不应与蒸发材料发生化学反应。在高温下某些蒸发源材料,与蒸发材料之间会产生反应及扩散而形成化合物和合金。特别是形成低共熔点合金蒸发源容易烧断。例如在高温时钽和金会形成合金,铝、铁、镍、钴也会与钨、钼、钽等蒸发源材料形成合金。钨还能与水或氧发生反应,形成挥发性的氧化物如WO、WO2或WO3;钼也能与水或氧反应而形成挥发性MoO3等。因此,应选择不会与镀膜材料发生反应或形成合金的材料做该材料的蒸发源材料。
真空镀膜
 
    由于在真空条件下制膜,所以薄膜的纯度高、密实性好、表面光亮不需要再加工,这就使得薄膜的力学性能和化学性能比电镀膜和化学膜好。东莞木龙科技有限公司创立于2019年10月,是一家专业从事真空镀膜设备及工艺的研发、设计、生产、销售于一体的企业。主营产品:真空镀膜生产设备和真空镀膜配件、自动化设备、镀膜材料和镀膜加工。
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